浦元真空帶你了解真空蒸發鍍膜法的概念：

1.基本原理：真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍）是在真空室中加熱蒸發容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流入射到固體（稱為襯底或基片）表面凝結形成固態薄膜的方法。 

2.真空蒸鍍時尤其是對真空環境的要求更嚴格其原因有：

A.防止在高溫下因空氣分子和蒸發源發生反應；

B.防止因蒸發物質的分子在鍍膜室內與空氣分子碰撞；

C.防止空氣分子作為雜質混入膜內或者在薄膜中形成化合物；

3.設備：真空鍍膜室和真空抽氣系統兩大部分組成。真空鍍膜室內裝有蒸發源、被蒸鍍材料、基片支架及基片等。